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抛光是指利用机械、化学或电化学的作用,使工件表面粗糙度降低,以获得光亮、平整表面的加工方法。是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。抛光不能提高工件的尺寸精度或几何形状精度,而是以得到光滑表面或镜面光泽为目的,有时也用以消除光泽消光。通常以抛光轮作为抛光工具。抛光轮一般用多层帆布、毛毡或皮革叠制而成,两侧用金属圆板夹紧,其轮缘涂敷由微粉磨料和油脂等均匀混合而成的抛光剂。




抛光三环节研磨、抛光、还原各环节具体含义及标准:1、 研磨:通过表面预处理清除漆面上的污物,消除-氧化、细微划痕及表面缺陷,工艺大多采用水砂纸去除表面瑕疵,一般使用3m 1500-2500皇牌水砂纸。随着人工成本的提高,水磨砂纸研磨效率不高,使用后砂纸痕较重的问题开始-,一些主流站开始采用3m 金字塔砂纸,p1500和p3000砂纸,使用干磨机抛光半湿磨的方式进行研磨,无砂纸痕的残留,机械化操作,可-的提高抛光效率。具体步骤如下:a, 缺陷去除。漆面喷洒少量水,使用p1500金字塔砂纸配合干磨机整体上下左右各一遍,漆面呈亚光状态;打磨后,使用橡胶刮水板刮除表面的白沫,观察漆面,找出突显的缺陷,再在砂碟上喷洒少量水,去除缺陷。b, 漆面过细。使用干磨机配合p3000金字塔砂碟和干磨软垫过细打磨过的漆面,在砂碟和漆面上喷洒一定量的水,以较快的移遮蔽保护动速度,按上下左右顺序各两道打磨整个漆面。打磨后,使用橡胶刮水板刮除表面水和白沫。




1、本抛光液在其使用初期会产生泡沫,因此抛光液液面与抛光槽顶部之间的距离不应***15cm;2、 不锈钢工件在进入抛光槽之前应尽可能将残留在工件表面的水分除去,因工件夹带过多水分有可能造成抛光面出现麻点,局部浸蚀而导致工件报废;3、在电解抛光过程中,作为阳极的不锈钢配件,因其所含的铁、铬元素不断转变为金属离子溶入抛光液内而不在阴极表面沉积。随着化学反应的进行,金属离子浓度会不断增加,当达到一定浓度后,这些金属离子以磷酸盐和-盐形式从抛光液内沉淀析出,沉降于抛光槽底部。因此抛光液必须定期过滤,去除这些固体沉淀物;4、在抛光槽反应过程中,除磷酸、-不断消耗外,水分因蒸发和电解而损失,此外,高粘度抛光液不断被工件夹带损失,抛光液液面不断下降,需经常往抛光槽补加抛光液和水;5、本产品中和后排放符合当今要求












多晶金刚石抛光液多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分,配合高分散性配方,可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。主要应用于蓝宝石衬底的研磨、led芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。氧化硅抛光液氧化硅抛光液cmp抛光液是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,如:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料、磷化铟,精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。





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