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1.化学抛光设备简单,可根据每批所处理的产品数量而设计建成,造价低。

2.化学抛光不需要直流电源和电挂具。

3.-适合抛光大型的各种材料建材或形状复杂的大型零部件。

&nbs自己设计木材切割机p; 4.可以同时抛光很多工件,效率-。主要用于工件的装饰性加工。

5.溶液寿命短,消耗大,再生困难。

6.抛光过程中会产生酸雾或有害气体,不利于工人健康及环境保护。

&nb木材切割机械sp;  7.抛光后,工件表面的粗糙度较其他方法得出的大。







由于铝和铝合金的易加工性能以及其表面经过处理后的高耐腐蚀性能,越来越多的铝合金制品被用于民用和工业用品中。为了提高铝合金制品的装饰性能,需要对其表面进行各种处理,其中化学抛光是一种赋于铝合金表面靓丽的处理工艺。

传统的三酸化学抛光液是由70%磷酸、20%-、10%组成。在这种抛光液中是充当一种缓蚀剂的作用,具有氧化性在使用时与铝进行反应而被还原成棕黄色的二氧-气体,二氧-对操作人员的-会造成-的伤害,同时二氧-也腐蚀工厂里内的机械设备。另外由于三酸抛光作业一般在100℃左右进行,易挥发和分解,通常的消耗速度过快,需频繁的对其含量进行分析和补加,造成铝合金工件批次间的光泽波动较大,也不利于自动线连续性操作。






抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂,具有-的去油污,防锈,清洗和增光性能,并能使金属制品超过原有的光泽。产品性能稳定、-,对环境无污染等优点。包括棘轮扳手、开口扳手,批咀、套筒扳手,六角扳手,螺丝刀等,铅锡合金、锌合金等金属产品经过研磨以后,再使用抛光剂配合振动研磨光饰机,滚桶式研磨光式机进行抛光。1、抛光剂投放量为根据不同产品的大小,光饰机的大小和各公司的产品光亮度要求进行适当配置;2、抛光时间:根据产品的状态来定;3、抛光完成后用清水清洗一次并且烘干即可。




这两个概念主要出半导体加工过程中,的半导体基片衬底片抛光沿用机械抛光、例如氧-、氧化锆抛光等,但是得到的晶片表面损伤是极其-的。直到60年代末,一种新的抛光技术——化学机械抛光技术cmp chemical mechanical polishing 取代了旧的方法。cmp技术综合了化学和机械抛光的优势:单纯的化学抛光,抛-率较快,表面光洁度高,损伤低,平整性好,但表面平整度和平行度差,抛光后表面一致性差;单纯的机械抛光表面一致性好,表面平整度高,但表面光洁度差,损伤层深。化学机械抛光可以获得较为平整的表面,又可以得到较高的抛-率,得到的平整度比其他方法高两个数量级,是能够实现全局平面化的有效方法。





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